设备说明：该设备是立式双开门（或单开门）蒸发和磁控反应溅射两用设备，适用于塑料、陶瓷及金属材料表面镀制*装饰膜和各种功能性薄膜（透明膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜等），*应用于电子、通讯、机械、轻工等多个领域。由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点，又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。主要特点：
1、 采用改进型高真空抽气系统，抽速快、效率高、节电、降噪和延长泵的使用寿命；
2、 蒸发、磁控溅射自动控制，操作简单、工作可靠；
3、 蒸发镀应用新型电极引入装置，接触电阻小、可靠；
4、 磁控溅射应用镀膜材料*，各种非导磁的金属、合金均可做镀料，膜层品质出众；
5、 适用于自重较大、易碎镀件的卡装，更方便地实现自动生产。基本配置：
1、 真空室采用304不锈钢制造，立式双开门（或单开门）结构，真空室有效直径自Φ1000mm－Φ1800mm；
2、 真空系统采用机械泵、高真空油扩散泵、罗茨真空泵、水汽低温捕集器等；
3、 镀膜电源配蒸发电源、高压轰击电源、磁控电源；
4、 充气系统采用1~3路气体流量计及流量（控制）显示仪；
5、 冷却系统按照设计要求设用水压不足自动报警装置；
6、 电气控制系统设计有多种保护装置（水压、断电、误操作），全自动可能告知（触摸屏 PLC）整个生产过程。技术参数：型号JL1000JL1200JL1400JL1600占地面积(M)3.2×5×2.6M4.2×5×3.2M4.6×6×3.2M5×7×3.3M工件转速0~20r/min总重量4000kg5000kg6300kg7120kg抽速（新机、空载）2×10-2Pa≦8min2×10-2Pa≦10min极限真空（新机、空载）≦8×10-4Pa
