MA89/12型-15(过滤弧+Φ160靶弧)多弧离子镀膜机
我们在品质方面避开低端路线，整机配置接近巴尔查斯，多项专利技术融入其中，特殊工艺要求更有保障。
立式圆筒形全不锈钢制造真空室，蜂巢结构，双层水冷，双开门，三维公自转架，转盘传动为滚子/链轮型，滚子与其转动副用高速钢制造。圆周上交错分布安装磁镜式过滤电弧阴极源。两开门上另备4耳舱加装Φ160靶电弧。小耳舱加装线形离子源1个。德国leybold vacuum产品旋片机械泵+罗茨泵各一台。高真空机组：德国普发Pfeiffer Hipace涡轮分子泵2台，配2台北仪优成直联泵作分子泵前级，配齐阀门，弯头和管道，合理位置设置高、低真空测量规管。三菱Q系PLC、研华一体工控机、17in触摸显示屏，三菱电器件。开式数据链，自动←→手动操控系统。当工艺确定后，可实现一键式自动镀膜流程控制。装配急停开关，有重大异常情况，通过触动开关停下设备。开关加装保护罩，避免误操作。
整机静电喷塑，喷塑前整体回火处理（低于敏化温度）消除应力。
按出口设备要求制造，精选配套件。
真空技术指标：（冷态、空载、清洁）
1． 极限压强：优于3×10-4Pa；
2． 抽速：大气到3×10-3Pa抽气时间小于15分钟
3. 压升率：≦0.3Pa/hr。
磁镜式过滤电弧+Φ160靶新弧源离子镀膜设备
我公司积20余年工具涂层的经验与KNOW-HOW研发。两种弧源混合应用于新型离子镀膜设备中，特别适于金属切削工具的离子涂层与机械零部件涂层（如TiAl涂层，2~3元混合涂层，梯镀膜涂层，纳米晶多层膜涂层等和活塞环的硬质超厚膜离子涂层）。设备可在450℃下稳定连续镀膜10小时，膜层细腻，结合力高（﹥80N）。备有特制冷筒，可避免活塞环涂层中温升过高回火。标准配置有：8弧源、10弧源、11弧源、15弧源镀膜设备；也可根据用户特殊需要设计、制造。
8弧源离子镀膜机：磁镜过滤电弧4套+Φ160靶新弧源4套，线形离子源1套；设备内尺寸Φ838×865㎜。
10弧源离子镀膜机：磁镜过滤电弧4套+Φ160靶新弧源6套，线形离子源1套；设备内尺寸Φ865×938㎜。
11弧源离子镀膜机：磁镜过滤电弧5套+Φ160靶新弧源6套，线形离子源1套；设备内尺寸Φ890×1060㎜。
15弧源离子镀膜机：磁镜过滤电弧5套+Φ160靶新弧源10套，线形离子源1套；设备内尺寸Φ938×1160㎜。
本机为15弧源离子镀膜机，主要配置为：磁镜过滤电弧5套+Φ160靶新弧源10套，线形离子源1套；50kW脉冲偏压电源1台。真空抽气系统是：粗抽（预抽）为德国莱宝真空LEYBOLD SV200旋片泵+MAU1001罗茨泵，精抽为德国普发PFEIFFER HIPACE250/2300分子泵2台和TRP408或ULVAC VDN401分子泵前级泵2台。设备内尺寸Φ938×1160㎜。控制系统为三菱Q系PLC+研华工控机+17寸elo彩触屏全自动控制系统。设备总体外形尺寸（长×宽×高）3780mm×3115mm×2065mm。
