我公司在国家“863”计划支持下，从事化学气相沉积（CVD）金刚石的研究开发已有十多年的历史，成功研制了具有自主知识产权的直流等离子喷射CVD设备，采用该设备生产的金刚石膜具有热导率高、机械强度好、成本低的特点。目前可提供多种品级及规格的金刚石膜热沉片，热导率*高可达1800W/m.K。
应用领域：
我公司提供的CVD金刚石膜热沉片系列产品外形可精确加工，并能金属化，可满足多种热学应用。主要应用领域包括：激光二级管、激光二极管阵列、大功率的半导体和微波器件等。
主要特性：
具有优异的热传导性能
可制备大面积的散热片
电绝缘
化学惰性
低热容量
可金属化
性能参数：
维氏硬度 7000-10000kg/mm2 密度3.51g/cm3
杨氏模量 1000-1100GPa 热导率（三种规格） 1200W/m•K;1500W/m•K;1800W/m•K 化学稳定性 不溶于所有的酸和碱 断裂强度 >500MPa(膜厚0.5mm，生长面受力） 热膨胀系数1.0±0.1ppm/K(300K);4.4±0.1ppm/K(1000K) 泊松比 0.1 平行度<4µm/cm 厚度误差 ±50µm 生长面光洁度 <100nm Ra 形核面光洁度 <30nm 尺寸<25mmx25mm
标准厚度：300µm
厚度、尺寸可根据用户要求加工。
